下面对RPD基托伸展范围的叙述不正确的是（）A.尽量扩大基托范围 B.上颌后牙游离端后缘伸展到翼上颌切迹 C.上颌后缘远中颊侧盖过上颌结节 D.边缘伸入组

admin2020-12-24 43

问题下面对RPD基托伸展范围的叙述不正确的是（）

选项 A.尽量扩大基托范围
B.上颌后牙游离端后缘伸展到翼上颌切迹
C.上颌后缘远中颊侧盖过上颌结节
D.边缘伸入组织倒凹区
E.下颌后缘覆盖磨牙后垫1/3～1/2

答案D

解析

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口腔材料的流电性在哪种材料的应用中应避免A.粘结材料B.金属修复材料C.热凝基托材料D.复合树脂充填材料E.烤瓷材料
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上颌第二前磨牙单根管者约为A.5%B.20%C.80%D.40%E.50%
可作为寻找腭大孔标志的是A.上颌第二磨牙B.上颌第一磨牙C.上颌第一前磨牙D.上颌第二前磨牙E.上颌第三磨牙
牙齿过度磨耗的结果不包括A.面下1／3变短B.面边缘变锐C.牙体形态改变D.上、下颌牙齿达到最大面积接触E.牙齿的颊舌径变宽
牙尖交错位时，其上颌切牙切缘位于下颌切牙唇面的切1／2内，应为A.Ⅰ度深覆B.Ⅱ度深覆盖C.Ⅰ度深覆盖D.Ⅲ度深覆E.Ⅱ度深覆
唾液的pH范围在A.5～7B.5.6～7.6C.6～7D.6.5～7.5E.6.5～8
上颌第二、三磨牙的牙体长轴A.与平面在颊侧所构成的角小于90°B.与平面在颊侧所构成的角等于90°C.与平面在颊侧所构成的角大于90°D.与平面在颊侧所构
下列关于Spee曲线的描述，错误的是A.是一条向上凹的曲线B.是曲线的一种C.是下颌的纵曲线D.是上颌的纵曲线E.至第一磨牙远颊尖逐渐降低
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