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一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是A.腭杆组织面缓冲 B.取下腭杆 C.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新
一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是A.腭杆组织面缓冲 B.取下腭杆 C.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新
admin
2020-12-24
58
问题
一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是
选项
A.腭杆组织面缓冲
B.取下腭杆
C.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
D.不做处理,让患者把义齿戴走
E.腭杆组织面加自凝树脂重衬
答案
C
解析
转载请注明原文地址:https://ti.zuoweng.com/ti/SjLCKKKQ
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