一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是A.腭杆组织面缓冲 B.取下腭杆 C.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新

admin2020-12-24  15

问题 一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是

选项 A.腭杆组织面缓冲
B.取下腭杆
C.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
D.不做处理,让患者把义齿戴走
E.腭杆组织面加自凝树脂重衬

答案C

解析
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