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  3. 上颌两侧磨牙全部缺失，设计支架式可摘义齿修复，为防止义齿下沉压迫黏膜，制作时要求

上颌两侧磨牙全部缺失，设计支架式可摘义齿修复，为防止义齿下沉压迫黏膜，制作时要求

shuhaiku2020-05-20  45
问题 上颌两侧磨牙全部缺失，设计支架式可摘义齿修复，为防止义齿下沉压迫黏膜，制作时要求A．腭杆中部与模型应有0.8～1mm距离B．腭杆中部与模型应有1.2～1.5mm距离C．腭杆中部与模型应有0.1mm距离D．腭杆中部与模型应有0.3～0.5mm距离E．腭杆中部与模型应完全贴合
选项
答案A
解析
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